半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。
太陽能光伏產(chǎn)業(yè)主要生產(chǎn)集中在多晶硅提純、拉單晶、多晶硅鑄錠、太陽能電池片等,這些生產(chǎn)工藝中主要動力需求包括:超純水,電源,特氣。
光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水。
液晶面板生產(chǎn)大約50%以上工序中硅片與超純水直接接觸,有80%以上工序需要進行化學處理,而化學處理又與超純水有密切關系,并且直接與工件接觸,如果水質不純,就會導致器件性能下降,影響產(chǎn)品性能,進而影響了產(chǎn)品的良率。
作為電解液的重要成分,水在電池中起著至關重要的作用,一般情況下的水中含有鈣鎂離子,固體顆粒、膠狀物質等導電物質,會縮短蓄電池的使用壽命,也不符合國家有關電池用水的標準規(guī)范,所以需要水質高的超純水作為電池電解液。
光伏太陽能、動力電池生產(chǎn)對超純水用量極大,因此系統(tǒng)具有產(chǎn)水量大、出水質量高、系統(tǒng)穩(wěn)定,水質要求≥17MΩ*cm(25℃)
電子半導體生產(chǎn)用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制極其嚴格,達到PPb級,產(chǎn)水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
液晶面板生產(chǎn)大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產(chǎn)品部件性能。
手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求極高,帶電力離子和污垢會對鏡片產(chǎn)生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。
磷酸鐵鋰、碳酸鋰、石墨烯等新材料的生產(chǎn),需要以超純水作為混合溶液,終端水質要求在≥15MΩ*cm(25℃)以上
化工是當今化學工業(yè)的新型領域,涉及領域廣泛,化工產(chǎn)品包括了大致11個品類:農(nóng)藥、染料、涂料、顏料、試劑盒高純物,信息用化學品、食品和飼料添加劑、粘合劑、催化劑和各種助劑、化工系統(tǒng)生產(chǎn)的化學藥品(原料藥)和日用化學品、高分子聚合物中(包括功能膜和偏光材料等),隨著經(jīng)濟發(fā)展,行業(yè)的開發(fā)和涉及領域也會不斷
新能源產(chǎn)業(yè)主要是源于新能源的發(fā)現(xiàn)和應用新能源指剛開始開發(fā)利用或正在積極研究、
電鍍涂裝行業(yè)中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水;另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗。
食品工業(yè)純水設備是針對于現(xiàn)行食品工業(yè)企業(yè)純水需求與食品QS認證、純凈水衛(wèi)生標準2003標準設計的,此純水設備采用全不銹鋼材質,后置純水殺菌模塊,操作簡便,工藝先進,水質穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)加工過程中添加用水。
工業(yè)廢水(industrial wastewater),指工藝生產(chǎn)過程中排出的廢水和廢液,其中含有隨水流失的工業(yè)生產(chǎn)用料、中間產(chǎn)物、副產(chǎn)品以及生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的污染物,是造成環(huán)境污染,特別是水污染的重要原因。
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